ぷろえんじにあ
TRIZ＆MOT学習のための技術・経営キーワードリスト TOP
1 解説
イオンビーム加工の原理は､イオンビームを固体表面に照射し､格子欠陥､表面原子のはじき出し(スパッタリング)､化学反応の促進などの現象を利用して､被加工物を空間選択的に削りとる方法である｡
イオンビーム加工の特徴として､大面積のイオンビームを用いるシャワービーム方式は､ドライエッチング等に利用できる｡また､微小径に収束したビームを用いる方式は､イオン照射部を制御して､直接加工できるとともに､被加工物を回転､移動することで､3次元的構造を容易に作成できる｡用途として､半導体製造プロセスのエッチングや直接描画装置等がある｡
2 所見
最近の動向として､イオンビーム加工の加工速度を高めるため､反応性ガスを吹きつけながら､イオンビーム照射する方法等も検討されている｡また､炭化水素系ガスあるいは､有機金属ガスなどを用いると､収束イオンビーム照射域のみに炭素膜あるいは金属膜を成長させることもできる｡これらの技術は､微小回路配線の修正や微小部品ののり付けなど､マイクロマシン組立のツールとしての利用も可能である｡