ぷろえんじにあ
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1 解説
プラズマ溶射とは､陰極と陽極ノズルの間に発生させた直流アークで作動ガス(アルゴン､窒素､水素､ヘリウムの単体または混合ガス)を超高温に熱し､プラズマジェットとしてノズルから噴出させ､この中へ溶射材料の粉末を送り込み､加熱､加速して素材表面に吹きつけて皮膜とするものである｡
プラズマ溶射の長所は､
① セラミックスなどの高融点材料から各種金属､合 金あるいはプラスチックスまで簡単に溶射可能｡
② 皮膜の素材への密着性が良好で高密度である｡
③ 不活性あるいは減圧雰囲気での溶射が行えて､皮膜の性質を改善できる｡
等があげられ､短所は次のようである｡
① 作業中に騒音と強い光を発する｡
② 設備費およびランニングコストが高い｡
その目的､用途としては､耐摩耗用､熱遮へい用､耐食性用､電子機器用､原子力用などである｡
2 所見
表面皮膜法には､プラズマ溶射以外にもガス溶射､真空蒸着､イオンプレーティング､スパッタ蒸着などのPVD (物理的蒸着)､CVD (化学的蒸着) などがある｡どの方法にも一長一短がある｡用途に応じて､品質およびコストパフォーマンスを考慮して選定する必要がある｡